Tungsten Oksit İnce Film Elektrokimyasal Biriktirme Yöntemi

Elektrokimyasal birikim bir tür sıvı faz yöntemidir, akım altında elektrolit elektrolizi, elektrot yüzeyinde ince film oluşacaktır. Elektrokimyasal biriktirme yönteminin uzun bir geçmişi vardır, teknoloji nispeten olgunlaşmıştır. Metal elektrokimyasal biriktirme işleme teknikleri zaten 19. yüzyılın başlarında ortaya çıkmıştı.

Elektrokimyasal çökeltme ile hazırlanan W03 ince filminin temel işlemi, tungsten tozunu çözmek, daha sonra H202'den kurtulmak, sonra elektrolit çözeltisini elde etmek ve daha sonra doğal biriktirme kullanmak için belirli bir H202 yüzdesi kullanmaktır. Çalışma elektrotu olarak Pt uygulayın ve karşı elektrot olarak başka bir madde kullanın. Birikmeye akım ekleyerek, Pt elektrotunda W03 ince film elde edilir.

Wp3 filmi üretmek için "gelişmiş elektrokimyasal biriktirme usulü" kullanımı ve filme oksijen tedavisi ve filmin oksijenle işlemden sonra elektrokimyasal özellikleri, özellikle kızılötesi yansıma etkisi kullanılarak. Bu yöntem, Ti substrat yüzeyinde W03 ince filminin hazırlanmasında kullanılır. Birçok türde metal oksit içeren WO3 ince film üretmek için elektrokimyasal biriktirme yöntemini kullanın, elektrokromik özelliği saf WO3 ince filmden daha iyidir. Diğer yöntemle karşılaştırıldığında, elektrokimyasal biriktirme yönteminin cihaz için basit bir gereksinimi vardır, kontrolü kolaydır, kaplanmış ince film homojendir ve kaplama alanının etkisine bağlı olarak bileşik ince film hazırlanmasında uygulanabilir, elde edilen W03 ince filmi Daha küçük.