ทังสเตนออกไซด์ของกลูโคสฟิล์มบางอิเล็กโทรดกลูโคส

กลูโคสมีอยู่ในธรรมชาติโดยการสังเคราะห์ด้วยแสง เนื่องจากมีปริมาณมากค่าใช้จ่ายต่ำและสามารถทำซ้ำได้จึงถือเป็นสารตั้งต้นพลังงานหลักในการผลิตไฮโดรเจน กลูโคสเป็นของเสียหลักของการเกษตรอุตสาหกรรมอาหารและการทำกระดาษการจำหน่ายที่ไม่เหมาะสมจะทำให้เกิดความเสียหายต่อสิ่งแวดล้อม เมื่อเร็ว ๆ นี้ระบบ PEC จำนวนมากผลิตไฮโดรเจนด้วยกลูโคส

ทังสเตนออกไซด์เชื่อมต่อกับอิเล็กโตรคาทาลิสต์เพื่อผลิตไฮโดรเจนจากกลูโคสแสดงให้เห็นปฏิกิริยาโฟโตคะทาไลติกที่ดีการฝากด้วยไฟฟ้าบนพื้นผิวของโฟโตคะทาลิสต์สามารถส่งเสริมกิจกรรมของเซมิคอนดักเตอร์ Electrocatalyst ที่สะสมอยู่บนพื้นผิวของเซมิคอนดักเตอร์จะสร้างชั้นของฝาครอบ โดยการเปลี่ยนการกระจายของอิเล็กตรอนในระบบจะส่งผลกระทบต่อคุณสมบัติพื้นผิวของ WO3 ดังนั้นกิจกรรมของโฟโตคะทาไลติกจะดีขึ้น โดยปกติหากระดับ Fermi ของ WO3 สูงกว่าวัสดุทั้งสองรวมกันอิเล็กตรอนจะย้ายจาก WO3 ไปยังการเก็บด้วยไฟฟ้า สิ่งกีดขวางทางพลังงานของ Schottk ที่มีศักยภาพค่อนข้างตื้นซึ่งสามารถดักจับอิเล็กตรอนได้จะเกิดขึ้นบนพื้นผิวของโลหะและอิเล็กโทรคาตาลิสต์ มันมีศักยภาพในการดักจับที่มีประสิทธิภาพสำหรับการแยกอิเล็กตรอนภาพถ่ายและหลุมอิเล็กตรอนมันสามารถต้านทานคอมโพสิตของอิเล็กตรอนภาพถ่ายและหลุมอิเล็กตรอนต่อไปนอกจากนี้ยังมีประสิทธิภาพการแยกของผู้ให้บริการชาร์จดังนั้นเพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพควอนตัมของ photocatalyst

ใช้ฟิล์มบางอิเล็กโทรด FTO / WO3 / Ni (OH) เพื่อลดการทดลองน้ำตาลกลูโคส จากการทดลองนี้เราจะพบว่าการสัมผัสของอิเล็กโทรดฟิล์มบาง WO3 ที่ไม่มี Ni (OH) 2 แทบจะไม่มีผลกระทบของกลูโคส การฝาก Ni (OH) 2 บนพื้นผิวของฟิล์มบางทังสเตนออกไซด์สามารถเพิ่มผลกระทบจากแสง ด้านล่างคือสเปกตรัม raman และการดูดกลืนแสงที่มองเห็นได้ด้วยรังสีอัลตราไวโอเลตของ FTO / WO3 อิเล็กโทรดฟิล์มบางและ FTO / WO3 / Ni (OH) 2