Filme fino de óxido de tungstênio dopado com Ta

O WO3 possui excelentes propriedades eletrocrômicas, como alta eficiência de coloração, reversibilidade e longo tempo de memória. Ele desempenha um papel importante na pesquisa de materiais e dispositivos eletrocrômicos. No entanto, o WO3 se dissolve no eletrólito do tipo próton, o que limita sua aplicação no eletrólito do tipo próton do dispositivo eletrocrômico. A pesquisa mostra que o material eletrocrômico de óxido nano-compósito pode melhorar a estabilidade do dispositivo, encurtar o tempo de resposta, prolongando o tempo de vida. O Ta2O5 possui excelente condutividade de íons e prótons, além de possuir excelente transparência em uma ampla faixa de comprimentos de onda, boa estabilidade térmica, estabilidade mecânica e química que é comumente usada em dispositivos eletrocrômicos de estado sólido. Portanto, as fases complexas Ta2O5 e WO3 juntas combinariam as vantagens de dois materiais e então atingiriam uma maior compatibilidade mecânica e química, melhorando assim a estabilidade e a longevidade do dispositivo.

A Shim informou que a película fina composta nano W-Ta óxido é mais estável na propriedade química e condutora de prótons do que a película fina WO3 pura. A película fina dopada com Ta pode melhorar a propriedade eletrocrômica, a estabilidade do ciclo e a capacidade de corrosão ácida da película fina de óxido de tungstênio, mas a quantidade de dopagem deve ser controlada dentro de uma determinada faixa. Quando a quantidade de dopagem é de 5% -10%, a película fina composta W1 T xTaxO3 teria uma melhor eficiência de coloração. Quando a quantidade de dopagem é de 15%, a propriedade eletrocrômica de W1 xTaxO3 é igual a filme fino WO3 puro. Continuar adicionando a quantidade de doping de Ta resultaria em exceder e causar impacto negativo no filme fino.