摻雜鋰氧化鎢薄膜

氧化鎢薄膜應用圖片

採用高氯酸鋰摻雜之後,三氧化鎢薄膜的平均厚度在270nm左右,性能得到改善,薄膜變得緻密光滑,電荷面密度增大,變色前後的光吸收差值可達52.9%。摻雜之後,並沒有改變整個薄膜的晶化溫度,仍然以220攝氏度為最佳熱處理溫度。

採用掃描電鏡放大5.5k倍後對薄膜樣品表面情況進行測試,經檢測發現設計中各樣品橫截面厚度基本一致,從圖2(a)可以看到摻入高氯酸鋰之後,薄膜平均厚度大約在2700nm左右(其比例尺為10.0um,每小格為1.0um,該樣品橫截面約為2.7個小格),相比於本人對未摻雜的三氧化鎢薄膜進行的測試時,可以看到薄膜表面的缺陷減少,孔洞幾乎消失,薄膜的緻密度有了極大的改善。以下面三個樣圖作為代表,能夠很明顯地體現出高氯酸鋰摻雜之後,三氧化鎢薄膜的表面情況。9號樣表面緻密好,但是存在較多的白色顆粒, 很可能是在摻雜時候高氯酸鋰在溶膠中的沉聚所造成。10號樣表面並無白色顆粒殘留,但是薄膜存在少量孔洞並出現裂痕,即此配比下,薄膜的應力不均勻。15號樣表面光滑緻密,無明顯殘留物,表面性能優良。