氧化鎢薄膜真空蒸發法
真空蒸發法製備WO3薄膜的原理是在高純惰性氣氛下（Ar, He），對蒸發物質進行真空加熱蒸發，使其原子或分子從表面氣化逸出，入射到襯底表面，蒸氣在惰性氣體介質中冷凝形成微粒薄膜。基本過程如下：在真空室下(-1.33*10-3Pa)，加熱WO3粉末，蒸氣在基片上冷凝，即得WO3薄膜。膜的厚度及成膜速率可以通過膜厚監控儀監控。現在真空蒸發法包括：電 弧蒸發、電子束蒸發、雷射光束蒸發法等。
利用真空法製備WO3薄膜，加熱源從最初的爐源加熱發展到電弧法加熱、電子束加熱、雷射光束加熱等，其中電子束蒸發製備WO3薄膜得到了較好的發展。
真空蒸發法製備的薄膜純度高、顆粒分散性好，通過改變、控制氣氛壓力和溫度，可制得顆粒尺寸不同的納米薄膜，適合合成熔點低、成分單一物質的薄膜或顆粒。但該法成本高，不適宜製備大面積薄膜。
