氧化钨薄膜电化学沉积法
电化学沉积法是一种液相方法，是把电解液加上电流进行电解，在工作电极表面便会生成所 需薄膜。电化学沉积法是一种历史较长，工艺相对成熟的表面处理技术。金属电化学沉积处理技术在19世纪早期就已出现。
电化学沉积法制备WO3薄膜基本过程是首先用H2O2以一定比例溶解W粉，然后祛除过量的H2O2，得电解质溶液并自然沉积，再以Pt作为工作电极，以另一种物质为对电极，通入电流电解沉积，Pt电极上即可得WO3薄膜。
采用“改进电沉积法”制备WO3薄膜，并研究该薄膜的后氧处理方法，以及后氧处理条件对薄膜的电化学特性，尤其是红外反射率的影响。用此方法在Ti基体表面制备了WO3薄膜。利用电沉积法制备含多种金属氧化物的WO3薄膜，并对其电致变色性能与纯WO3薄膜进行了对比研究。电沉积法相对与其他方法，其设备较简单，可控性强，镀膜较均匀且可进 行复合薄膜制备。但受到镀膜面积的影响，所制得的WO3薄膜面积较小。
